|
【備 注】：
TG2U型光刻機(jī)主要技術(shù)參數(shù)見(jiàn)下表：
項(xiàng)目 |
參數(shù)
|
|
適用的掩模尺寸
|
a.100X100X2－3mm；b.75X75X2—3mm；c.63X63X2—3(選購(gòu))；
|
|
適用的硅片尺寸
|
φ35—75mm
|
|
光刻圖形線(xiàn)條
|
3-4μm, 最細(xì)可達(dá)2μm
|
|
掩模與硅片之間的相對(duì)位移范圍
|
X/Y±2.5mm,(族轉(zhuǎn)) ±6°
|
|
承片臺(tái)(硅片)繞主軸旋轉(zhuǎn)
|
粗調(diào)360度,可微調(diào)
|
|
承片工作臺(tái)綜合移動(dòng)范圍
|
X,Y合成φ75mm
|
|
承片臺(tái)的球座平面至掩模板面升降
|
0—7.5mm
|
|
曝光燈源
|
GCQ200W超高壓汞燈，曝光波長(zhǎng)，300―436nm
|
|
曝光系統(tǒng)能量不低于
|
7mw
|
|
曝光系統(tǒng)的照度均勻度在φ75mm范圍內(nèi)
|
±5％
|
|
顯微鏡的照明波長(zhǎng)
|
≈545nm
|
|
曝光時(shí)間控制范圍
|
0.1秒—99分
|
|
雙目顯微鏡的放大倍數(shù)
|
a.目鏡共二種:10X,16X；b.平視場(chǎng)物鏡共三種:6X,9X,15X；c.合成放大倍率:60X—240X；
|
|
真空接觸壓力
|
≥0.7kgf
|
|
裝箱尺寸
|
1000X850X980mm(2只)
|
|
裝箱重量
|
200kg
|
注：用戶(hù)有何特殊要求可協(xié)商。
注意：如果產(chǎn)品升級(jí)恕不另行通知，網(wǎng)站及資料會(huì)同步升級(jí)，并以實(shí)物為準(zhǔn)！
|
